nor flash和nand flash的區別介紹

NOR和NAND是現在市場上兩種主要的非易失閃存技術。Intel於1988年首先開發出NOR flash技術,徹底改變了原先由EPROM和EEPROM一統天下的局面。緊接着,1989年,東芝公司發表了NAND flash結構,強調降低每比特的成本,更高的性能,並且象磁盤一樣可以通過接口輕鬆升級。
一、存儲數據的原理
兩種閃存都是用三端器件作爲存儲單元,分別爲源極、漏極和柵極,與場效應管的工作原理相同,主要是利用電場的效應來控制源極與漏極之間的通斷,柵極的電流消耗極小,不同的是場效應管爲單柵極結構,而FLASH爲雙柵極結構,在柵極與硅襯底之間增加了一個浮置柵極。
浮置柵極是由氮化物夾在兩層二氧化硅材料之間構成的,中間的氮化物就是可以存儲電荷的電荷勢阱。上下兩層氧化物的厚度大於50埃,以避免發生擊穿。
二、浮柵的重放電
向數據單元內寫入數據的過程就是向電荷勢阱注入電荷的過程,寫入數據有兩種技術,熱電子注入(hot electron injection)F-N隧道效應(Fowler Nordheim tunneling),前一種是通過源極給浮柵充電,後一種是通過硅基層給浮柵充電。NORFLASH通過熱電子注入方式給浮柵充電,而NAND則通過F-N隧道效應給浮柵充電。
在寫入新數據之前,必須先將原來的數據擦除,這點跟硬盤不同,也就是將浮柵的電荷放掉,兩種FLASH都是通過F-N隧道效應放電。
三、連接和編址方式
兩種FLASH具有相同的存儲單元,工作原理也一樣,爲了縮短存取時間並不是對每個單元進行單獨的存取操作,而是對一定數量的存取單元進行集體操作, NANDFLASH各存儲單元之間是串聯的,而NORFLASH各單元之間是並聯的;爲了對全部的存儲單元有效管理,必須對存儲單元進行統一編址。
   NAND器件使用複用的I/O口存取數據,8個引腳分時用來傳送控制、地址和數據信息。NAND的全部存儲單元分爲若干個塊,每個塊又分爲若干個頁,每個頁是512byte,就是512個8位數,就是說每個頁有512條位線,每條位線下有8個存儲單元;所以NAND每次讀取數據時都是制定塊地址、頁地址、列地址列地址就是讀的頁內起始地址)。每頁存儲的數據正好跟硬盤的一個扇區存儲的數據相同,這是設計時爲了方便與磁盤進行數據交換而特意安排的,那麼塊就類似硬盤的簇;容量不同,塊的數量不同,組成塊的頁的數量也不同。NAND FLASH的讀寫操作是以頁爲基本單位,寫入數據也是首先在頁面緩衝區內緩衝,數據首先寫入這裏,再寫命令後,再統一寫入頁內,因此每次改寫一個字節,都要重寫整個頁,因爲它只支持頁寫,而且如果頁內有未擦除的部分,則無法編程,在寫入前必須保證頁是空的。

NOR的每個存儲單元以並聯的方式連接到位線,它帶有SRAM接口,有足夠的地址引腳來尋址,可以很容易地存取其內部的每一個字節。方便對每一位進行隨機存取,它不需要驅動;具有專用的地址線,可以實現一次性的直接尋址;縮短了FLASH對處理器指令的執行時間。

四、性能
1、速度
在寫數據和擦除數據時,NAND由於支持整塊擦寫操作,所以速度比NOR要快得多,兩者相差近千倍;讀取時,由於NAND要先向芯片發送地址信息進行尋址才能開始讀寫數據,而它的地址信息包括塊號、塊內頁號和頁內字節號等部分,要順序選擇才能定位到要操作的字節;這樣每進行一次數據訪問需要經過三次尋址,至少要三個時鐘週期。

NOR FLASH的操作則是以字或字節爲單位進行的,直接讀取,所以讀取數據時,NOR有明顯優勢。但擦除是扇區操作的。
2、容量和成本
    NORFLASH的每個存儲單元與位線相連,增加了芯片內位線的數量,不利於存儲密度的提高。所以在面積和工藝相同的情況下,NANDFLASH的容量比NOR要大得多,生產成本更低,也更容易生產大容量的芯片。

NOR FLASH佔據了容量爲116MB閃存市場的大部分,而NAND flash只是用在8128MB的產品當中,這也說明NOR主要應用在代碼存儲介質中,NAND適合於數據存儲,NANDCompactFlashSecure DigitalPC CardsMMC存儲卡市場上所佔份額最大。 
3
、易用性
    NAND FLASHI/O端口採用複用的數據線和地址線,必須先通過寄存器串行地進行數據存取,各個產品或廠商對信號的定義不同,增加了應用的難度;在使用NAND器件時,必須先寫入驅動程序,才能繼續執行其他操作。向NAND器件寫入信息需要相當的技巧,因爲設計師絕不能向壞塊寫入,這就意味着在NAND器件上自始至終都必須進行虛擬映射。

NOR FLASH有專用的地址引腳來尋址,較容易與其它芯片進行連接,另外還支持本地執行,應用程序可以直接在FLASH內部運行,可以簡化產品設計。
4、可靠性
    NAND FLASH相鄰單元之間較易發生位翻轉而導致壞塊出現,而且是隨機分佈的,如果想在生產過程中消除壞塊會導致成品率太低、性價比很差,所以在出廠前要在高溫、高壓條件下檢測生產過程中產生的壞塊,寫入壞塊標記,防止使用時向壞塊寫入數據;但在使用過程中還難免產生新的壞塊,所以在使用的時候要配合 EDC/ECC(錯誤探測/錯誤更正)BBM(壞塊管理)等軟件措施來保障數據的可靠性。壞塊管理軟件能夠發現並更換一個讀寫失敗的區塊,將數據複製到一個有效的區塊。
5、耐久性
    FLASH由於寫入和擦除數據時會導致介質的氧化降解,導致芯片老化,在這個方面NOR尤甚,所以並不適合頻繁地擦寫,NAND的擦寫次數是100萬次,而NOR只有10萬次。

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