據媒體報道指出上海微電子將在明年向國內芯片製造企業交付28nm光刻機，這代表着國產光刻機最先進的技術水平，國產光刻機在大幅縮短與海外的技術差距。
由於華爲的遭遇，國人對於芯片製造產業高度關注，要擺脫對國外技術的依賴就需要研發自己的芯片製造產業鏈，而光刻機無疑是其中的關鍵設備。
此前國內的芯片製造廠幾乎全數進口外國光刻機，但是從華爲遭遇這次事件之後，國產芯片製造產業鏈迅速聚集力量，培育起國產芯片製造產業鏈，藉此真正實現獨立自主。
由於國內對芯片製造產業鏈的重視不足，據悉在2019年之前國產光刻機的最先進工藝水平在90nm左右，由於國產光刻機的技術較爲落後，國產芯片製造廠不願採用，國產光刻機企業也就沒有資金進行研發，導致國產光刻機的技術水平與外國的差距越來越大。
從去年起，國內的光刻機產業鏈獲得了巨大的支持，光刻機的研發進入快速發展階段，北京、上海、武漢等地的光刻機企業和相關研發機構紛紛表示加大研發力度。
上海微電子似乎已成爲其中的領先者，它將率先向芯片製造企業交付28nm的光刻機，在兩年時間內就研發出先進的技術並將之變成可以使用的設備，這顯示出它的技術研發能力與生產結合得相當好。
其實在上海微電子之前，也有其他研發機構表示它們已研發出更先進的光刻機技術，然而光有技術而不能將之變成實際的設備，對國內的芯片製造產業支持較爲有限，而在技術到產品之間還需要考慮許多的因素和時間。
光刻機的生產除了生產廠商自己對核心技術的研發之外，也需要配套企業進行相關的技術研發，這是一整條產業鏈共同努力的成果，畢竟此前國內的光刻機產業鏈的技術相比海外落後太多，這也凸顯出光刻機設備生產廠家與研發機構的巨大差異。
上海微電子用兩年多時時間研發出28nm光刻機已屬於一個巨大的技術進步，對此我們應該敬佩上海微電子爲國內芯片製造產業鏈作出的貢獻，同時也應該由此清醒看到國內光刻機技術與海外的差距，需要腳踏實地加快追趕速度，但又應該考慮到國內產業鏈的現實。
或許也是看到中國光刻機產業鏈的迅速進步，近期全球光刻機行業領導者ASML表示將大規模向中國芯片製造企業供應DUV光刻機，這似乎頗爲巧合。
海外技術先進企業的如此做法其實在液晶面板產業也曾出現過，在21世紀初期，日韓企業一直都表示有意在中國投資建設先進的液晶面板生產線，然而遲遲不見行動，到了2009年京東方和華星光電宣佈籌建與當時海外先進技術水平相當的8.5代線，夏普、三星等紛紛在中國建設先進的液晶面板生產線，這證明了只有我們解決有無問題，國外企業纔會真正重視。
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